智鑫航滾輪導(dǎo)軌在氣相沉積設(shè)備（如PVD、CVD、ALD）中的應(yīng)用，需重點解決真空兼容性、耐高溫性和污染控制，三大核心問題。以下是具體分析：

??1. 關(guān)鍵應(yīng)用場景??

??晶圓傳輸機械手??在真空腔體內(nèi)搬運晶圓（如從Load Lock到反應(yīng)腔），導(dǎo)軌需在10??Torr真空度下穩(wěn)定運行，避免材料放氣污染工藝環(huán)境。

??基板加熱臺移動支撐高溫（200℃）環(huán)境下基板的精準定位，要求導(dǎo)軌材料熱膨脹系數(shù)與腔體匹配

??擋板/掩模驅(qū)動??控制薄膜沉積圖案的精密遮罩運動，重復(fù)定位精度需≤±0.05mm。

??2. 智鑫航方案的核心適配技術(shù)??

??（1）真空環(huán)境設(shè)計??

??低放氣材料??采用不銹鋼（440C）滾輪，放氣率＜5×10?1? Torr·L/s·cm2（He檢漏合格）。

??無油脂潤滑??固體潤滑（如MoS?鍍膜或石墨嵌入）或自潤滑軸承，避免油蒸氣污染沉積膜層。

??密封結(jié)構(gòu)??金屬波紋管或磁流體密封，防止軸承磨損顆粒進入腔體。

??（2）高溫耐受性??

??（3）潔凈度控制??

??表面處理??電解拋光（Ra≤0.2μm）+鈍化，減少顆粒吸附和化學(xué)殘留。

??無磁化工藝??避免鐵磁性雜質(zhì)影響薄膜沉積均勻性（尤其對磁性薄膜工藝關(guān)鍵）。

??3. 典型應(yīng)用案例??

??PVD設(shè)備旋轉(zhuǎn)基架??智鑫航ZRH-VAC系列在濺射設(shè)備中實現(xiàn)晶圓公轉(zhuǎn)/自轉(zhuǎn)（轉(zhuǎn)速10~50rpm），膜厚不均勻性＜±1.5%（原設(shè)備＞±3%）。

??ALD前驅(qū)體閥門驅(qū)動??高響應(yīng)速度（啟停時間＜50ms）確保脈沖氣體精確時序控制。

???4. 選型注意事項??

??真空等級匹配??根據(jù)設(shè)備極限真空選擇對應(yīng)型號（如10?? Torr選標準型，10?? Torr需定制特殊密封）。

??熱變形補償??若腔體與導(dǎo)軌材料不同（如鋁腔體+鋼導(dǎo)軌），需軟件補償熱位移誤差。

??化學(xué)兼容性??確認導(dǎo)軌材料耐蝕性（如CVD設(shè)備需耐受NH?、HF等腐蝕性氣體）。

??5. 潛在技術(shù)風(fēng)險??

??微?？刂??長期摩擦可能產(chǎn)生亞微米級顆粒，需搭配腔體自清潔系統(tǒng)（如RF等離子清洗）。

????結(jié)論??：智鑫航滾輪導(dǎo)軌在 ??中高真空沉積設(shè)備?? 中具備顯著性價比優(yōu)勢，尤其適合預(yù)算有限但要求高可靠性的場景。對于原子層沉積（ALD）等超潔凈需求，建議評估磁懸浮替代方案。